Le confort ne devrait pas être un compromis.CRIT-X —Foamwell'smousse supercritique brevetée—cela ne l'est jamais.
Fabriquée grâce à une extrusion de CO₂ supercritique de pointe (un procédé de fabrication révolutionnaire et écologique), la mousse CRIT-X T70 offre des avantages qu'aucune mousse traditionnelle ne peut égaler :
● Précision microcellulaireLa technologie supercritique crée des structures cellulaires uniformes et minuscules (bien plus fines que les mousses standard) — ce qui signifie une sensation initiale plus douce et une durabilité inégalée (pas de période de rodage, pas d'affaissement au fil du temps).
● Léger sans compromisAvec une densité de 0,1 à 0,12, il est 30 % plus léger que les matériaux de rembourrage comparables, mais sa dureté de 30° ± 3°C et sa résilience ≥ 70 % lui assurent un excellent retour à la forme initiale.à chaque fois(Idéal pour une utilisation intensive comme les chaussures de sport ou les semelles portées toute la journée).
● Polyvalence personnalisableDisponible en épaisseurs de 2 à 40 mm, sa structure supercritique s'adapte à la découpe, au façonnage et au collage — parfait pour les semelles intérieures sur mesure, les doublures de chaussures ou les rembourrages ergonomiques.
Ingénierie éco-responsableLe traitement au CO₂ supercritique élimine les solvants nocifs (un atout pour le développement durable).etsécurité du produit, sans aucun résidu toxique).
Qu’est-ce qui distingue CRIT-X ? C’est la fusion de plus de 10 ans d’expertise de Foamwell en matière de mousse et d’une technologie supercritique de pointe : nous avons transformé le « souple » en « intelligent », créant un matériau qui s’adapte aux mouvements et résiste à une utilisation intensive.
Fabriqué dans les installations mondiales de Foamwell (Dongguan, Vietnam, Indonésie) — où des décennies d'expertise en matière de mousse rencontrent l'innovation de nouvelle génération — CRIT-X T70 n'est pas seulement un matériau : c'est l'avenir du confort, breveté et perfectionné.
Sentez-vous bien avec Foamwell. Soyez plus performant avec CRIT-X.
Date de publication : 20 janvier 2026