CRIT-X: El innovador sistema supercrítico patentado de Foamwell: donde la comodidad se une a la ciencia.

La comodidad no debería ser un compromiso. ConCRIT-X —De Foamwellespuma supercrítica patentada—Nunca lo es.

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Fabricada mediante extrusión avanzada de CO₂ supercrítico (un proceso de fabricación revolucionario y respetuoso con el medio ambiente), CRIT-X T70 ofrece ventajas que ninguna espuma tradicional puede igualar:

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● Precisión microcelularLa tecnología supercrítica crea estructuras celulares diminutas y uniformes (mucho más finas que las espumas estándar), lo que se traduce en una sensación inicial más suave y una durabilidad inigualable (sin periodo de adaptación ni deformación con el tiempo).

● Ligero sin sacrificar la ligerezaCon una densidad de 0,1–0,12, es un 30 % más ligero que los materiales de amortiguación comparables, pero su dureza de 30°±3C y su resiliencia ≥70 % aseguran que recupere su forma.cada vez(Ideal para uso de alto impacto, como calzado deportivo o plantillas para usar durante todo el día).

● Versatilidad personalizableDisponible en espesores de 2 a 40 mm, su estructura supercrítica se adapta al corte, al moldeado y a la unión, lo que la hace perfecta para plantillas a medida, forros de calzado o acolchado ergonómico.

Ingeniería respetuosa con el medio ambienteEl procesamiento con CO₂ supercrítico elimina los disolventes nocivos (un logro para la sostenibilidad).yseguridad del producto, sin residuos tóxicos).

 

¿Qué distingue a CRIT-X? Es la fusión de los más de 10 años de experiencia de Foamwell en espumas y la tecnología supercrítica de vanguardia: hemos transformado lo "blando" en "inteligente", creando un material que se adapta al movimiento y resiste un uso intensivo.

 

Fabricado en las instalaciones globales de Foamwell (Dongguan, Vietnam, Indonesia), donde décadas de experiencia en espumas se unen a la innovación de última generación, CRIT-X T70 no es solo un material: es el futuro del confort, patentado y perfeccionado.

 

Siéntete bien con Foamwell. Rinde más de forma inteligente con CRIT-X.


Fecha de publicación: 20 de enero de 2026