Успешный опыт участия в выставке
Компания Foamwell рада сообщить, что наше участие вВыставка NW Material Show 2025 в Портленде, штат Орегон.на27–28 августаВыставка прошла с большим успехом. На стенде № 106 в конференц-центре штата Орегон наша команда получила возможность познакомиться со многими обувными брендами, дизайнерами и менеджерами по закупкам со всего мира.
Демонстрация наших инновационных решенийСтелька Материалы
Во время шоу мы с гордостью представили нашипоследнийстелькатехнологии, что вызвало большой интерес у посетителей:
Сверхкритическая стелька (пена SCF):Легкий, экологичный, с превосходной упругостью и комфортом.
Стелька Peak Foam:Дышащая полиуретановая пена, разработанная для длительного комфорта и износостойкости.
Стелька Polylite:Запатентованная технология пенопласта Foamwell обеспечивает мягкую поддержку и высокую воздухопроницаемость.
Стелька из пенополиуретана EVA:Универсальный и широко используемый как в спортивной, так и в повседневной обуви.
Наши инновационныестелькарешения привлекли внимание не только благодаря своимпреимущества в комфорте и производительностино также и за их сосредоточенность наустойчивость и передовые технологииматериалыинженерия.
Положительные отзывы и новые возможности
Многие посетители выставки проявили большой интерес к нашей продукции.сверхкритическая стелькатехнологииа также универсальность нашихПИКиЕВАмылостелькиМы провели ценные дискуссии по следующим вопросам:параметры настройкиа также потенциальное сотрудничество как с известными обувными брендами, так и с новыми партнерами.
Взгляд в будущее
Мы благодарны всем, кто нас посетил.Стенд Foamwell № 106и способствовали успеху этого мероприятия. Выставка NW Material Show в очередной раз доказала свою важность как платформа для инноваций, налаживания связей и развития обувной промышленности.
Foamwell продолжит инвестировать впередовая стелькаразработкаЧтобы удовлетворить меняющиеся потребности мировых обувных брендов. Мы с нетерпением ждём встречи с вами на нашей следующей выставке!
Дата публикации: 30 августа 2025 г.